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Hydrogen-500（S）金剛石MPCVD氫氣發(fā)生器是一種能夠連續(xù)可靠地產(chǎn)生高純度氫氣的設(shè)備，其純度可達到99.9999%以上。相比昂貴且危險的高壓氫氣鋼瓶。

HYDROGEN-2L/3L氣相色譜專用氫氣發(fā)生器是一種能夠連續(xù)可靠地產(chǎn)生高純度氫氣的設(shè)備，其純度可達到99.9999%以上。相比昂貴的高壓氫氣鋼瓶，該設(shè)備具有更高的安全性和經(jīng)濟性，不再需要更換鋼瓶，從而避免了中斷重要分析工作的情況。

HYDROGEN/5L/10L/17L氫氣發(fā)生器是由超純水機制取二級水，并儲存至水箱備用的設(shè)備。當(dāng)氫氣發(fā)生器缺水時，它會自動供給水。此外，多臺氫氣發(fā)生器還可以串聯(lián)使用，通過串聯(lián)控制線由一臺發(fā)生器控制其他發(fā)生器，實現(xiàn)產(chǎn)氣均勻分配。

高純CVD，MOCVD專用氫氣發(fā)生器的全部工作過程均由程序控制，自動恒壓、恒流，通過串聯(lián)控制線，可實現(xiàn)多組并聯(lián)使用，設(shè)備配有安全裝置，電解超純水制氫，無腐蝕、無污染，配有壓力控制，缺水自動監(jiān)控，漏氣自動檢測。

功能方面，高壓氫氣發(fā)生器具有自動水位控制功能，當(dāng)缺水狀態(tài)時，自動停機，自動補水功能，水量低于15%時，由外置水箱自動補水，無需停機加水。有效保護電解池，延長使用壽命。

CVD（Chemical Vapor Deposition）和MOCVD（Metal-Organic Chemical Vapor Deposition）是兩種常用的化學(xué)氣相沉積技術(shù)，用于制備薄膜、涂層和納米材料等。